納米砂磨機(jī)分離技術(shù)，研磨介質(zhì)的注意事項(xiàng)
隨著現(xiàn)代納米砂磨技術(shù)的進(jìn)步，隨著產(chǎn)品細(xì)度要求的提高，研磨介質(zhì)的使用越來(lái)越多，研磨介質(zhì)分離系統(tǒng)的進(jìn)步也越來(lái)越小。 小型研磨介質(zhì)的分離是砂磨機(jī)發(fā)展中最困難的問(wèn)題之一。 那么，有關(guān)納米砂磨機(jī)研磨介質(zhì)要求的細(xì)節(jié)是什么？
1.研磨介質(zhì)尺寸：砂磨機(jī)中使用的研磨介質(zhì)主要是球形。 直徑越小，單位體積中加載的介質(zhì)數(shù)量越多，球之間的接觸點(diǎn)越多，并且產(chǎn)品的細(xì)度隨著相同的研磨時(shí)間而增加（如圖5所示）。 研磨介質(zhì)太小會(huì)導(dǎo)致砂光機(jī)出口分離器堵塞。 因此，砂光機(jī)分離器的結(jié)構(gòu)和狹縫的寬度決定了研磨介質(zhì)的尺寸。 通常，研磨介質(zhì)的直徑是砂光機(jī)分離器間隙寬度的2-4倍。
2.研磨介質(zhì)的填充率：砂光機(jī)近似最佳。 所需的研磨效果：水平砂光機(jī)的填充率一般為80-85％。 立式圓盤(pán)砂光機(jī)的填充率通常為75-80％。 立式條形砂光機(jī)的填充率一般為85-95％。 質(zhì)量測(cè)量方法=砂磨機(jī)的有效體積×加載速率（75-85％）×介電體積密度。 簡(jiǎn)而言之，研磨介質(zhì)的填充率太高，這可能導(dǎo)致砂光機(jī)的溫度升得太高或者出口被堵塞。 研磨介質(zhì)填充率低，研磨效率低，磨損增加，研磨時(shí)間延長(zhǎng)。
3.研磨介質(zhì)的重力：介質(zhì)的比重越大，動(dòng)能越大，研磨效率越高。 直徑為1.6-2.5mm的鋼球通常用于生產(chǎn)膠印油墨，而直徑為0.3-0.8mm的氧化鋯珠粒用于磨料噴墨油墨。
1.研磨介質(zhì)尺寸：砂磨機(jī)中使用的研磨介質(zhì)主要是球形。 直徑越小，單位體積中加載的介質(zhì)數(shù)量越多，球之間的接觸點(diǎn)越多，并且產(chǎn)品的細(xì)度隨著相同的研磨時(shí)間而增加（如圖5所示）。 研磨介質(zhì)太小會(huì)導(dǎo)致砂光機(jī)出口分離器堵塞。 因此，砂光機(jī)分離器的結(jié)構(gòu)和狹縫的寬度決定了研磨介質(zhì)的尺寸。 通常，研磨介質(zhì)的直徑是砂光機(jī)分離器間隙寬度的2-4倍。
2.研磨介質(zhì)的填充率：砂光機(jī)近似最佳。 所需的研磨效果：水平砂光機(jī)的填充率一般為80-85％。 立式圓盤(pán)砂光機(jī)的填充率通常為75-80％。 立式條形砂光機(jī)的填充率一般為85-95％。 質(zhì)量測(cè)量方法=砂磨機(jī)的有效體積×加載速率（75-85％）×介電體積密度。 簡(jiǎn)而言之，研磨介質(zhì)的填充率太高，這可能導(dǎo)致砂光機(jī)的溫度升得太高或者出口被堵塞。 研磨介質(zhì)填充率低，研磨效率低，磨損增加，研磨時(shí)間延長(zhǎng)。
3.研磨介質(zhì)的重力：介質(zhì)的比重越大，動(dòng)能越大，研磨效率越高。 直徑為1.6-2.5mm的鋼球通常用于生產(chǎn)膠印油墨，而直徑為0.3-0.8mm的氧化鋯珠粒用于磨料噴墨油墨。
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